半导体薄膜沉积PVD设备是决定关键制程的设备，磁性组件是其中的关键零部件。该工艺利用溅射源在工艺腔室内形成交互的电磁场，延长电子的运动路径进而提高等离子的浓度，最终实现沉积效果的提升。磁场的形态是PVD工艺的关键，直接影响到金属薄膜沉积的速率与效果，以及靶材的利用率。

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